真空化學氣相沉積工藝(Chemical Vapor Deposition,英文簡稱CVD), 俗稱：真空氣相鍍膜，納米鍍膜或派瑞林鍍膜。是一種把含有構(gòu)成薄膜元素的長鏈性高分子材料（派瑞林Parylene等）、單質(zhì)氣體經(jīng)過昇華、熱解後進入放置產(chǎn)品的真空反應室，借助空間氣相化學反應並在產(chǎn)品表面上沉積生成的0.1-100um薄膜塗層的工藝技術。薄膜塗層厚度均勻，緻密無針孔、透明無應力、不含助劑、不損傷產(chǎn)品、有優(yōu)異的電絕緣性和防護性，是當代最有效的防潮、防黴、防腐、防鹽霧塗層材料。     

CVD派瑞林真空氣相鍍膜流程

隨著時代的發(fā)展，電子產(chǎn)品技術的不斷革新。高新技術與智能化的發(fā)展，精密的電子設備元件需要適應各種惡劣的工作環(huán)境，達到工業(yè)對其更高的要求：高可靠，小型化，抗干擾等等。因此，電子零部件的環(huán)境適應性和防護力就成了重中之重。

LPMS為適應現(xiàn)有市場需求, 通過開發(fā)創(chuàng)新，成功的將派瑞林鍍膜技術運用到電子產(chǎn)品行業(yè)。我們在材料、工藝和設備方面的專有技術使我們能夠為客戶帶來高質(zhì)量的超薄與納米級保形塗層，其成就在行業(yè)得到認可。